ald，ald是什么意思

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一、ald空调是什么牌子

1、ald空调是深圳市爱绿地能源环境科技有限公司旗下品牌。空调即空气调节器，是指用人工手段，对建筑或构筑物内环境空气的温度，湿度，流速等参数进行调节和控制的设备，一般包括冷源或热源设备，冷热介质输配系统，末端装置等几大部分和其他辅助设备。

2、主要包括，制冷主机，水泵，风机和管路系统，末端装置则负责利用输配来的冷热量，具体处理空气状态，使目标环境的空气参数达到一定的要求，空调是现代生活中人们不可缺少的一部分，空调为人们提供了凉爽，但同时空调常开也易引起疾病，如空调病等，需要慎用。

3、但说到空调可以普及，主要是通过电影院，大多数美国人是在电影院第一次接触到空调的。20世纪20年代的电影院利用空调技术，承诺能为观众提供凉爽的空气，使空调变得和电影本身一样吸引人，而夏季也取代了冬季成为看电影的高峰季节。

二、ald是什么意思

1、醛固酮（Aldosterone）是一种增进肾脏对于离子及水分子再吸收作用的类固醇类激素（盐皮质激素家族），化学式为C21H28O5，主要作用于肾脏，是增进肾脏对于离子及水分再吸收作用的一种激素。

2、原发性醛固酮增多症，假性醛固酮增多症（双侧肾上腺球状带增生），利尿剂、心衰、肝硬变、肾衰、肾病综合征等所致的继发性醛固酮增多症，原发性周期性水肿，Bartter氏综合征，肾球旁器增生，低血容量，各种原因所致的低钾血症，部分恶性高血压及缓进型高血压等。

3、见于肾上腺皮质功能减低（如Addison病）、原发性单一醛固酮减少症、高钠饮食、自主神经功能紊乱、妊娠高血压综合征、宫内死胎、恶性葡萄胎等。

三、ald设备是什么

ALD设备是设计适用于科学研究、企业研发和大规模自动化生产的灵活、可靠的原子层沉积ALD工艺平台。

ALD设备非常适合从研发阶段的薄膜沉积扩大到大规模的工业化生产。区别于普通CVD或PECVD原理，ALD可沉积超薄的、高深宽比的膜层。

ALD设备通过气路、腔体结构设计、配合相应的工艺配方，成功实现了不同薄膜的沉积厚度可控性；此设备可升级更多的前驱体源和气路、高真空泵、原位清洗和其他选项；特殊设计的进气结构，解决了传统腔室的颗粒问题，使之具有良好的洁净度，改善产品的电性能和良率；设备系统易于安装维护，大大提高了装机的周期。

1、铝源注入：加热后的三甲基铝（TMA）蒸汽注入为金属铝源，其中TMA包含一个铝原子 三个前驱体原子。

2、气体清洗一：使用惰性气体，将多余的 TMA蒸气和反应副产物甲烷带出反应室。

3、氧源注入：水蒸气脉冲进入反应室和 TMA前驱体吸附的表面继续进行表面化学反应。

4、气体清洗二：清洗气体把多余的水蒸气和反应副产物甲烷带出反应室。

上面的过程循环往复，每次循环实现镀膜一层原子，直到镀到目标厚度停止。使用ALD设备镀膜，可以实现三大优点，即三维共形性、均匀性（致密且无孔）、原子级的厚度控制。

四、ald是什么缩写

1.医学中ALD的意思是患有肾上腺脑白质营养不良，属于一种遗传性疾病。

肾上腺脑白质营养不良是以进行性脑功能障碍以及肾上腺皮质功能不全为主要表现，属于一种X连锁隐性遗传的脂质代谢病。一般在儿童期发病，预后极其不良。主要表现为进行的运动型障碍、视力减退、智力减退及精神障碍，部分患者还会出现瘫痪、言语障碍以及智力减退。

如果患病以后没有进行正确的治疗，可能会对生命健康造成威胁。如果确诊患有肾上腺脑白质营养不良，可以在医生的指导下通过造血干细胞移植的方式进行治疗。

患者日常生活中可以多吃一些含不饱和脂肪酸的食物，比如洋葱、花菜、萝卜、冬瓜、海带、紫菜、香菇、山楂以及豆制品等，对促进病情恢复有一定的帮助，还可以增强身体抵抗力。

2.ALD(Atomic Layer Deposition)

随着半导体器件和材料的尺寸不断降低，而器件中的高宽比不断增加，半导体材料使用的薄膜更多的需要以原子为单位控制。要求优秀的 step coverage，并且沉积温度低以防止界面扩散和氧化。以原子层为单位沉积技术“Atomic Layer Deposition(ALD)”的开发克服了原来的半导体技术局限。

ALD技术和CVD, PVD薄膜生长技术相比具有以下优势：1.大部分ALD工艺在400度以下的低温进行；2.由于是以原子为单位沉积，可以精确的控制非常薄的薄膜，杂质含量低，几乎没有pin hole； 3. ALD即使在 High Aspect Ratio也能满足100%的step coverage。

然而，ALD也存在缺点，受原子层沉积机制限制沉积速度慢。因此，ALD主要用在需要精确控制薄膜的工艺，如栅极介电膜、电容介电膜和金属阻挡层。

ALD是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在基体上化学吸附并反应而形成薄膜。通过供给惰性气体（Ar,N2等）分隔各种反应物，单个原子层沉积，并重复沉积控制厚度。

即，ALD不是通过气体气相反应来沉积，而是一种反应物吸附在基体上，然后第二或者第三种气体进入并与基体化学吸附成膜。这种反应称为自限性反应（ Self-limiting Reaction）。自限性反应只发生在反应物和表面的反应，反应物和反应物不发生反应，因此能够以原子层为单位沉积。

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